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電鍍硬烙技術(shù)在不斷的追求中進(jìn)步


電鍍硬烙廠家不能保證所有的產(chǎn)品沒(méi)有瑕疵,也不能保證一個(gè)產(chǎn)品沒(méi)有一點(diǎn)瑕疵。主要是我們的加工工藝和技術(shù)還沒(méi)有達(dá)到這樣的程度,我們知道,一些產(chǎn)品總是有這樣那樣的額問(wèn)題,較好的產(chǎn)品也只是相對(duì)來(lái)說(shuō)的。在不斷的進(jìn)步中我們總是淘汰舊的產(chǎn)品需要更好的產(chǎn)品替代。我們的加工技術(shù)也是這樣,只要是能促進(jìn)和改革產(chǎn)品質(zhì)量的環(huán)保技術(shù)很快就會(huì)運(yùn)用到我們的生產(chǎn)中。電鍍硬烙對(duì)于產(chǎn)品的加工也是一樣的,我們?cè)诟倪M(jìn)技術(shù)的同時(shí),也在追求產(chǎn)品品質(zhì)的上升。只有在進(jìn)步中我們才能獲得更好的產(chǎn)品。以下是我們的電鍍硬烙廠家常用的技術(shù)和改進(jìn)工藝介紹。


電鍍硬鉻的反刻時(shí)間應(yīng)根據(jù)活塞環(huán)材質(zhì)和結(jié)晶組織緊密程度來(lái)決定。緊密結(jié)構(gòu)或鋼質(zhì)則時(shí)間長(zhǎng),碳元素為球狀,則時(shí)間長(zhǎng),一般灰鑄鐵環(huán)為5—15S,球墨鑄鐵環(huán)為15—45s。鋼帶環(huán)為50—1008。反刻電流密度2O4oA/dm^2。沖擊鍍時(shí)間90—120s,沖擊電流密度為正常電鍍的1.5—2.0倍,這取決于整流器的額定電流。電鍍電壓一般小于lOV。在掛具良好狀態(tài)下,若電壓上升,則表示鍍液中三價(jià)鉻太多。


控制鍍液溫度是保證電鍍硬鉻的鍍層硬度和色澤穩(wěn)定的重要因素。由于活塞環(huán)電鍍電流密度60A/dm2以上,產(chǎn)生的熱量多,槽液溫度上升很快,須有良好的冷卻設(shè)置。很多廠家采用體外循環(huán)冷卻,效果更好。電鍍硬鉻酸與硫酸之比須嚴(yán)格控制,把硫酸控制在下限以控制三價(jià)鉻的增加。過(guò)多的三價(jià)鉻本身是鍍鉻中有害的金屬雜質(zhì)。控制硫酸的含量很大程度上抑制三價(jià)鉻的增加,延長(zhǎng)鍍液壽命。

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